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真空甩帶爐是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的專用設備,該設備除了具有感應爐的全部特點外,還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作。
真空甩帶爐廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學的開發(fā)與研究。以下是主要技術參數(shù):
1.樣品熔煉量:500~1000g;
2.輥輪尺寸:φ300mmx100mm(帶水冷);
3.銅棍速度:1-3000r/min;
4.真空度:優(yōu)于5x10-4Pa;
5.熔煉電源功率:35KW;
6.熔煉溫度:500℃-1700℃,滿足絕大多數(shù)實驗要求;
7.熔煉坩堝:氮化硼;
8.條帶寬度:10-50mm;
9.真空腔尺寸:450×450×680mm (L*W*H)
10.設備尺寸:2050*1160*1850m(L*W*H)
11.標配:主機及感應熔煉電源
12.模塊化設計,占地空間小,安裝方便
真空甩帶機由真空室、甩帶裝置、坩堝自動升降裝置、氣路系統(tǒng)、機殼和熔煉電源等組成。
1、真空室:采用304板組焊而成并做表面處理,爐門上裝有大尺寸觀察窗,既滿足高真空要求,又便于觀察實驗情況。
2、甩帶裝置:采用伺服電機驅(qū)動,無極調(diào)速,密封采用磁流體密封裝置,銅棍拆卸方便。轉(zhuǎn)動平穩(wěn),噪音極低。
3、坩堝自動升降系統(tǒng):采用伺服電機升降,可根據(jù)不同材料設備不同噴帶參數(shù)。
4、氣路系統(tǒng):由電磁閥、壓力罐、手動閥門和管路組成,
5、機殼:結合國內(nèi)外設備外觀經(jīng)驗,根據(jù)自身設備特點,設計出合理機殼,外表噴塑處理;
6、熔煉電源:定制的專用熔煉電源,操作簡單,結構小巧;
7、觸摸屏+PLC控制,可視化操作界面。
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